高周波電源
高周波電源は日新技研にとって基礎技術であり、新素材・結晶といった各事業も、この技術をベースに成り立っています。 日新技研の高周波電源は主に研究分野に...
PRODUCTS
製品
どの製品もお客様のご要望によりカスタマイズが可能です。
真空溶解炉
真空溶解炉 高周波誘導加熱により、高真空中または不活性雰囲気において溶解及び鋳造が可能で、高品質な材料を製造する装置です。 仕様 型式 溶解量Fe換...
大気溶解炉
大気溶解炉 高周波電源を使用し短時間で効率の良い溶解を行い、作業性に優れています。 仕様 型式 溶解量 高周波電源 電源容量 冷却水 NEA-M1 ...
真空アーク溶解炉
真空アーク溶解炉 正面扉開閉式で掃除及び試料の着脱が容易です。電極の位置決めが容易・試料反転機構等、簡単に作業できる操作性に優れたアーク溶解装置です...
傾角鋳造装置
傾角鋳造装置 高真空に排気後不活性ガス置換を行い、傾角鋳造及びアーク溶解を行う装置です。 特徴 傾角鋳造法（特許）にてアーク溶解鋳造が行え、急冷金属...
高純度活性金属真空溶解炉
高純度活性金属真空溶解炉高周波誘導水冷銅ルツボ方式 高純度、高融点材料の溶解に最適な装置です。 仕様 型式 溶解量 高周波電源 電源容量 冷却水 N...
真空連続鋳造装置
真空連続鋳造装置 ルツボで溶解した金属を鋳造ダイスより引出し、連続して鋳造材を作製する装置です。丸材、平材の鋳造が可能です。 特長 横引き方式と縦...
液体急冷凝固装置
液体急冷凝固装置 溶融状態の金属を高速回転するロールに噴射することにより、結晶の核形成速度より速く冷却され、急冷薄帯金属が容易に得られます。（液体...
急冷薄片製造装置
急冷薄片製造装置水冷単ロール法 溶解室とロール室の2段真空室を有します。高周波電源は溶解用とノズル余熱用の2電源を使用し、水冷単ロールに溶湯を噴射し...
ガスアトマイズ装置
高周波誘導加熱により、真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において試料の溶解を行い、 高圧のガスを吹きつけ球状の数十μm程度の粉末を作成します。...
ハイブリッド装置
ハイブリッド装置ガスアトマイズと回転ディスクの2重構造 ガスアトマイズ法により粉砕した試料を、高速回転するディスクに噴霧し、飛散させる装置です。 特...
水アトマイズ装置
水アトマイズ装置 高周波電源を使用し、真空または雰囲気中において溶解を行い、ルツボ底に設けたノズルから溶湯を流し、溶湯に高圧の水を噴きつけることによ...
回転ディスク装置
回転ディスク装置 高周波電源を使用し、溶解ルツボにストッパーを設け高速回転中のディスクに注湯し、飛散を行い、Heガスにて急冷する装置です。 特徴 試...
メカニカルアロイング装置
メカニカルアロイング装置 本格的なメカニカルアロイング装置です。他装置にない特殊なオプションをつけることが可能です。 特徴 真空または雰囲気中でボー...
一方向凝固、単結晶作製装置
一方向凝固、単結晶作製装置 ブリッジマン方式真空または、不活性ガス雰囲気中において高周波電源により溶解を行い、ノズル内の溶融金属を凝固成長させる装置...
ゾーンメルティング装置
ゾーンメルティング装置 溶融帯を移動、凝固させることで純度を上げる精製装置です。高真空中または、不活性ガス雰囲気でゾーンメルトできます。（FZ方式、...
真空高温焼結装置
真空高温焼結装置 真空または、不活性ガス雰囲気中において高周波電源により高温加熱を行い試料を焼結する装置です。 特徴 高融点活性材料（セラミック、サ...
真空ホットプレス装置
真空ホットプレス装置 真空または不活性ガス雰囲気中にて高温加熱材料を圧縮成型及び焼結します。 特徴 サーボ弁制御での精度の高いプレスができます。 高...
真空熱処理装置
真空熱処理装置 特徴 高真空中でコンタミの無い純度の高い熱処理が可能です。 温度分布が良く均等な熱処理ができます。 ガス冷却機構により冷却時間を短縮...
超小型単結晶引上装置
超小型単結晶引上装置（石英管タイプ） 高周波誘導加熱式による超小型の単結晶育成装置です。 特徴 超低価格を実現しました。 超小型コンパクト設計により...
酸化物単結晶引上装置
酸化物単結晶引上装置 高周波誘導加熱による各種酸化物単結晶の引上装置です。 特徴 最大ルツボ径Φ200mmまで取付可能です。 チャンバー正面扉開閉方...
μ-PD装置（結晶引き下げ装置）
μ-PD装置（結晶引き下げ装置） 高周波誘導加熱式によるマイクロ引下げ結晶育成装置です。 特徴 高速で結晶育成が可能なため、物性評価用に最適です。 ...
高温アニール装置
高温アニール装置 高周波電源を使用し、真空引き後に不活性ガス雰囲気において、石英管内にセットしたサセプタ内の材料をアニールする装置です。 特徴 サセ...
SiC単結晶成長装置
SiC単結晶成長装置 高周波誘導加熱式によるSiC（又はAlN）単結晶成長装置です。 特徴 超小型50kW高周波電源が本体に内蔵されているため、省ス...
GaP・InP高圧合成装置
Gap・InP高圧合成装置 アンプルに封入されたGa（またはIn）とPを、一定蒸気圧のもとでGaP（またはInP）に合成する装置です。高圧ガス保安法...
電子ビーム源（光学超多層膜用）
光学超多層膜用電子ビーム源NEG-10N型 270°偏向ビームで、ビームスキャン幅±20mmを実現しました。磁気回路補正システムを採用することにより...
電子ビーム源（インナーポールピース型）
インナーポールピース型電子ビーム源NEG-F06AF型 概要 NEG-F06AF型電子ビーム源は電子ビーム源上部、上面に配置のポールピースをすべて本...
電子ビーム源（選択型）
選択型電子ビーム源NEG-06Nシリーズ 1つのベースで用途に合わせたカスタマイズが可能な電子ビーム源です。垂直性抜群の「NEG-06N型電子ビーム...
電子ビーム用 5kW電源
5kW電源（電子ビーム用）NEB-05S型、NEB-05W型 概要 NEB-05型電源シリーズは、超小型サイズで設置スペースが少ない電源です。NEB...
電子ビーム用 10kW電源
10kW電源（電子ビーム用）NEB-10SE型、NEB-10WE型 概要 NEB-10SE型電源は1電子ビーム源仕様の電源で、NEB-10WE型電源...