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ガスアトマイズ装置 

ガスアトマイズ

ガスアトマイズ装置 

高周波誘導加熱により、真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において試料の溶解を行い、 高圧のガスを吹きつけ球状の数十μm程度の粉末を作成します。 オプションにて水アトマイズ法、フリーフォールガスアトマイズ、法回転ディスク法への切替も可能です。

噴射の様子

特徴

  • 真空溶解および噴射室真空排気により酸化を防ぎます。
  • 作業性を重視し短時間作業が可能です。(例:3Kg溶解60分)
  • 高融点材料も容易に粉末を作成できます。
  • 溶融ノズルとガスジェットノズルの位置だしは、上下調整機構により手軽にそして正確にできます。
  • 粉末は100μm以下で高回収率です。(平均粒径20~60μm)

基本仕様

型式方式溶解量
(鉄換算)
溶解温度
(常用)
高周波電源
NEVA-GP2外熱方式1~2Kg1400℃NET-20I
NEVA-GP4外熱方式3~4Kg1400℃NET-30I
NEV-GP5内熱方式3~5Kg1600℃NET-30I
NEV-GP10内熱方式6~10Kg1600℃NET-30I
NEVT-GP30内熱方式20~30Kg1600℃NET-50I
高周波電源は一例です。条件によりお選びいただけます。
その他、上記以外の仕様についても対応いたします。お問い合わせください。

超小型ガスアトマイズ装置

超小型ガスアトマイズ装置

真空または不活性ガス中において外熱式誘導溶解方式で作業性を重視し、操作が簡単な超小型実験装置です。(鉄系・非鉄系共可能)

特徴

  • 超小型で実験室にも設置可能です。
  • 作業性が良く短時間で実験可能です。
  • 掃除が容易です。

仕様

型式溶解量噴射ガス圧
設定圧
高周波電源電源容量冷却水
NEV-GP21~2kg10Mpa20kW29kVA75ℓ/min
真空到達圧力(ブランク時 10⁻³) 電源電圧3Φ 200V